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第二百四十四章 举国之力的产物(2 / 31)

拉着一大票研究所,合作企业,同时展开了数十个新材料研究项目,挨个测试各种材料并对材料进行针对性的改进。”

“最终花了两年多时间,这才弄出来了堪用的材料!”

“但是弄出来材料还不行,然后还得加工啊!”

“这加工更难!”

曹星辰说的时候,也是回想起来了之前的研发困境,不由得感叹:“光刻机所需要的镜片精度是非常高的,通常需要达到波长的五十分之一,比如我们这DUV干式光刻机的光源波长是193纳米,五十分之一就是三点八六纳米!”

“这种精度的加工,几乎超过普通人的想象!”

“而我们南光之前在生产I-line光刻机镜片以及KRF光源镜片的时候,采用的是国内现有的一些技术,比如小磨头抛光、磁流变抛光等技术。”

“原有的这些技术用来加工DUV光刻机所需要的镜片还不够!”

“而且想要在原来的技术路线想要获得更大的突破,达到蔡司,尼康等厂家的水准难度非常大。”

“为了解决这一问题,我们的研发团队一边现有技术进行研发,一边开发新技术,其中的一项新技术得到了迅速发展,这就是离子束抛光技术。”

说到这个离子束抛光技术的时候,曹星辰整个人都变的激动了起来:

“这项技术虽然也很难研发,为此耗费了我们大量的人力物力,但是真正做出来后效果那是真的好啊!”

“利用该技术我们可以轻易的加工出来满足DUV干式光刻机需求的镜片,甚至后续工艺继续改进后,搞出来DUV浸润式光刻机的镜片也是问题不大!”

DUV干式光光刻机和浸润式光刻机,虽然使用的光源都是ARF光源,但是浸润式光刻机的光源经过超纯水的折射后,波长却是演变为134纳米。

因为两者虽然光源系统看似一样,但是对物镜以及其他子系统的要求是不一样的。

曹星辰继续说着:“甚至在这项技术上继

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