颗芯片，也就是二十四万颗芯片，除去其中的次品之后，一天能剩下二十万颗左右。
但是，要注意到这是理想状态下。
实际上，一台光刻机的工作效率受到很多种因素的影响，包括光刻机的型号、工艺、晶圆大小、芯片尺寸和复杂度等。
不同型号的光刻机在光源系统、光学镜头、双工作台等方面的差异，直接决定了光刻机的分辨率、套刻精度和生产效率。
最后，理想状态下可以一天生产二十万合格芯片的光刻机，其实能够生产出来的芯片仅仅只有两万左右。
但是，如果换成光刻工厂的话，主打的就是一个量大实惠。
一次性可以生产的芯片，远远超过光刻机，不管是理想状态下的生产数量还是实际生产数量，都会暴打光刻机。
只是，在前世的时候，对于光刻工厂的真实性和可信性，根本没有得到学术界的承认。
王东来此世早就生出了这样的想法。
而在学习到了相关知识之后，王东来也明白了此事的难度。
理想很美好，现实很骨感。
想要完成光刻工厂的设想，难度极大。
绝对不比研发出一台高性能的EUV光刻机简单。
甚至，从某一种方面来说，难度还要更大。
然而，天才就是天才。
如果换成其他人的话，根本不可能有实现的可能性。
毕竟，将一款成熟的技术进行扩大化，可不是简单的扩大就行了。
要做到这一点，就必须要对该技术有极为深刻的了解和清楚的认知。
如此，才能将这个技术成功地扩大化，并应用在实际上。
等离子刻蚀机突破了，EDA设计软件成型了，先进设计方案也验证成功了，光刻胶也完成了。
现在，在半导体领域还差光学镜头、晶圆片、硅晶体等材料和设备了。
这些都很重要，可是，还远远比不上光刻设备的重要。
有着前世